高低温一体恒温槽MGD40-20为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源， 应用于-40℃～180℃（高至温度195℃）石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的恒温控温或外循环应用