定制低温恒温循环槽MD20-5P，容积5L，控温范围-5℃～100℃，高达至温度100℃，作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环使用

低温恒温反应槽（-20℃～90℃）可直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用

低温恒温槽MD40系列.温波动度达到±0.05℃，提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源

低温恒温水槽MD5-4，容积4.5L，控温范围-5℃～90℃，温度波动度0.05℃，提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用

低温恒温水槽（-20℃～100℃）MD20系列，恒温波动度达到±0.05℃，提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源

超低温恒温装置（-90℃～100℃）采用复叠式压缩制冷，噪音低，制冷效率高，可以提供热冷受控，温度均匀恒定的液体环境，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，恒温波动度达到±0.1℃

加热制冷浴槽（-30℃～90℃）主要有压缩机、冷凝器、节流阀、换热器、循环泵、加热器等几大件组成，用于-30℃石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用

大容量加热制冷浴槽MD30-100，容积100L，控温范围：-30℃～90℃（高至温度100℃），可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于-30℃的样品保存、分析测试和计量检定等

低温恒温循环槽 MD20-20可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用。